Mediciones Hall en epitaxias de Hg Cd Te (MCT) crecidas sobre sustratos de CdTe

Autores
Núñez García, Javier Luis Mariano; Heredia, Eduardo Armando; Gilabert, Ulises Eduardo
Año de publicación
2023
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
documento de trabajo
Estado
versión aceptada
Descripción
El efecto Hall surge como resultado de la interacción entre corrientes eléctricas y campos magnéticos que atraviesan la muestra, un fenómeno que permite caracterizar las propiedades eléctricas fundamentales de los materiales conductores y especialmente semiconductores. Dicha interacción resulta en la generación de un campo eléctrico perpendicular que da origen a un voltaje transversal. Mediante este efecto se efectúa la identificación del tipo de semiconductor, en tipo n o p. Además, permite la determinación del número de portadores de carga en el material. Midiéndose la resistividad (ρ), es posible calcular la movilidad (µ) y la densidad de los portadores de carga. La medición de la resistividad juega un papel fundamental en la industria de fabricación de semiconductores y dispositivos electrónicos, es esencial para verificar la calidad y uniformidad de los materiales utilizados. Mantener una resistividad uniforme es crítico para asegurar un rendimiento coherente de los dispositivos. Además, la resistividad está interconectada con otras propiedades materiales tales como la conductividad eléctrica, la movilidad de los portadores de carga y la densidad de portadores. Mediante el uso de un equipo construido íntegramente en nuestro laboratorio, se realizaron mediciones Hall de muestras de HgxCd1-xTe crecidas sobre un sustrato de CdTe. Dichos crecimientos se realizaron por medio de un horno VPE (Vapor Phase Epitaxy).
Convocatoria Viajes y Eventos FRBA año 2023
UTN FRBA, UNIDEF - MINDEF - CONICET - CITEDEF
Fil: Núñez García, Javier Luis Mariano. UNIDEF. MINDEF. CONICET. DEMAPE. Argentina
Fil: Núñez García, Javier Luis Mariano. Centro de Tecnologías Químicas (CTQ). Departamento de Ingeniería Química. UTN. FRBA. Argentina
Fil: Heredia, Eduardo Armando. UNIDEF. MINDEF. CONICET. DEMAPE. Argentina.
Fil: Gilabert, Ulises Eduardo. Centro de Tecnologías Químicas (CTQ). Departamento de Ingeniería Química. UTN. FRBA. Argentina
Peer Reviewed
Materia
HgCdTe
Efecto Hall
Microscopía óptica
Microscopía electrónica de barrido
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
2024-07-12T20:28:33Z
Repositorio
Repositorio Institucional Abierto (UTN)
Institución
Universidad Tecnológica Nacional
OAI Identificador
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