Deposición, caracterización y actividad electro-catalítica de capas delgadas de ITO fabricadas a ángulo oblicuo por RF magnetron sputtering

Autores
Moreira, Ramiro Damián; Oliva-Ramírez, Manuel; Wang, Hongmei; Schaaf, Peter
Año de publicación
2019
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
documento de conferencia
Estado
versión aceptada
Descripción
En este trabajo, se fabricaron capas finas esculturales de ITO en configuración de ángulo oblicuo mediante RF magnetron sputtering con dos composiciones de plasma distintas, argón y oxígeno, y solo argón. Las mismas presentaron alta transparencia en el espectro visible, una porosidad considerable y baja resistividad eléctrica. Se seleccionó un ángulo de deposición y se fabricaron capas en estructura chevron para su uso como electrodos electroquímicos. Al evaluar la actividad electrocatalítica, estas capas porosas mostraron mejor actividad en comparación con capas compactas, y a su vez las capa crecidas con argón y oxigeno superaron a las crecidas en sólo argón.
Fil: Moreira, Ramiro Damián. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Concepción del Uruguay. Departamento Ingeniería Electromecánica. Grupo de Ingeniería de Superficies; Argentina.
Fil: Oliva-Ramírez, Manuel. Universidad Técnica de Ilmenau. Facultad de Ingeniería Eléctrica y Tecnologías de la Información. Instituto de Ingeniería de Materiales; Alemania.
Fil: Wang, Hongmei . Universidad Técnica de Ilmenau. Facultad de Ingeniería Eléctrica y Tecnologías de la Información. Instituto de Ingeniería de Materiales; Alemania.
Fil: Scaaf, Peter. Universidad Técnica de Ilmenau. Facultad de Ingeniería Eléctrica y Tecnologías de la Información. Instituto de Ingeniería de Materiales; Alemania.
Materia
Plasma
Deposición electro-catalítica
ITO
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
2021-01-18T19:33:17Z
Repositorio
Repositorio Institucional Abierto (UTN)
Institución
Universidad Tecnológica Nacional
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