Materiales carbonosos nanoestructurados para el almacenamiento de hidrógeno

Autores
Carraro, Paola; Cuello, Natalia; Sapag, Karim; Oliva, Marcos Iván; Eimer, Griselda Alejandra
Año de publicación
2018
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
documento de conferencia
Estado
versión publicada
Descripción
El diseño y estudio de nuevos materiales con propiedades específicas resulta interesante en varios campos científicos y tecnológicos. En los últimos años, los carbones nanoestructurados (NC) han atraído rápidamente la atención debido a sus propiedades fisicoquímicas, las cuales son útiles para muchas aplicaciones, entre ellas en adsorción y catálisis. En este trabajo, se sintetizaron materiales mesoporosos de carbón del tipo CMK-3 y luego se modificaron con níquel por el método de impregnación húmeda. La capacidad de adsorción de H2 fue medida a 77 k hasta 10 bar. Los resultados indicaron que las propiedades texturales del material jugaron un rol relevante en la adsorción de H2 en los materiales sintetizados.
Fil: Cuello, Natalia: niversidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Córdoba. Centro de Investigación y Tecnología Química (CITeQ-CONICET-UTN); Argentina.
Fil: Sapag, Karim. Universidad Nacional de San Luis. Laboratorio de Sólidos Porosos (INFAP – CONICET – UNSL); Argentina.
Fil: Oliva, Marcos Iván Instituto de Fisica Enrique Gaviola (IFEG -CONICET – UNC) ; Argentina.
Fil: Eimer, Griselda Alejandra. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Córdoba. Centro de Investigación y Tecnología Química.(CITeQ-CONICET-UTN); Argentina.
Fil: Carraro, Paola. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Córdoba. Centro de Investigación y Tecnología Química.(CITeQ-CONICET-UTN). Instituto de Fisica Enrique Gaviola (IFEG -CONICET – UNC) ; Argentina.
Materia
Materiales nanoestructurados
CMK-3
Níquel
Almacenamiento de H2
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
2022-05-11T23:10:36Z
Repositorio
Repositorio Institucional Abierto (UTN)
Institución
Universidad Tecnológica Nacional
OAI Identificador
oai:ria.utn.edu.ar:20.500.12272/6259

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