Elaboración de superficies absorbedoras con recubrimientos refractarios para aplicaciones a altas temperaturas

Autores
Di Lalla, Nicolás; Lasorsa, Carlos; Morando, Pedro
Año de publicación
2010
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
Se realizaron recubrimientos, sobre sustratos de acero inoxidable, de tres materiales refractarios: oxinitruro de titanio (TiNOx), carburo de titanio (TiC) y nitruro de silicio (Si3N4). El fin fue el de determinar cuál de ellos presenta mejores cualidades para una posible aplicación en absorbedores selectivos que operen a altas temperaturas. Para asegurar una posible escalabilidad futura del proceso, se empleó una técnica industrialmente muy reconocida por sus bajos costos asociados, como es la "Deposición Química en Fase Vapor Asistida por Plasma" ó PECVD ("Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition"). Los depósitos obtenidos fueron observados mediante microscopia electrónica para determinar sus microestructuras. Las propiedades ópticas y térmicas de las superficies se evaluaron mediante reflectometría visible e infrarroja respectivamente. Además, se compararon las propiedades de los distintos recubrimientos con las obtenidas de una muestra selectiva comercial. Como resultado se determinó que el Si3N4 se destaca por sobre los otros recubrimientos estudiados; su absorbancia solar promedio resultó del 96%, y su reflectancia promedio en el IR del 87%.
Coverings of refractory materials: titanium oxinitride (TiNOx), titanium carbide (TiC) and silicon nitride (Si3N4) on stainless steel substrate were performed. The aim was to study the possibility of elaborating selective coverings adequated to operate at high temperatures. To assure the possible future scalability of the process, a technology industrially very well recognized by his low associate costs was used: Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD). The microstructures of the surfaces obtained were characterized with a Scanning Electron Microscope (SEM). The optical and thermal properties were evaluated by means of reflectometry. The properties of the different coverings obtained were compared with a selective commercial sample. The Si3N4 covering resulted the more convenient one: his average solar absorbance was 96 %, and his average infrared reflectance 87 %.
Asociación Argentina de Energías Renovables y Medio Ambiente (ASADES)
Materia
Ingeniería
Ciencias Exactas
selectividad
Energía solar
PECVD
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/
Repositorio
SEDICI (UNLP)
Institución
Universidad Nacional de La Plata
OAI Identificador
oai:sedici.unlp.edu.ar:10915/99531

id SEDICI_0cf20fd9c4ec8ce280dcf65e2ed2b8aa
oai_identifier_str oai:sedici.unlp.edu.ar:10915/99531
network_acronym_str SEDICI
repository_id_str 1329
network_name_str SEDICI (UNLP)
spelling Elaboración de superficies absorbedoras con recubrimientos refractarios para aplicaciones a altas temperaturasDi Lalla, NicolásLasorsa, CarlosMorando, PedroIngenieríaCiencias ExactasselectividadEnergía solarPECVDSe realizaron recubrimientos, sobre sustratos de acero inoxidable, de tres materiales refractarios: oxinitruro de titanio (TiNOx), carburo de titanio (TiC) y nitruro de silicio (Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>). El fin fue el de determinar cuál de ellos presenta mejores cualidades para una posible aplicación en absorbedores selectivos que operen a altas temperaturas. Para asegurar una posible escalabilidad futura del proceso, se empleó una técnica industrialmente muy reconocida por sus bajos costos asociados, como es la "Deposición Química en Fase Vapor Asistida por Plasma" ó PECVD ("Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition"). Los depósitos obtenidos fueron observados mediante microscopia electrónica para determinar sus microestructuras. Las propiedades ópticas y térmicas de las superficies se evaluaron mediante reflectometría visible e infrarroja respectivamente. Además, se compararon las propiedades de los distintos recubrimientos con las obtenidas de una muestra selectiva comercial. Como resultado se determinó que el Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub> se destaca por sobre los otros recubrimientos estudiados; su absorbancia solar promedio resultó del 96%, y su reflectancia promedio en el IR del 87%.Coverings of refractory materials: titanium oxinitride (TiNOx), titanium carbide (TiC) and silicon nitride (Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>) on stainless steel substrate were performed. The aim was to study the possibility of elaborating selective coverings adequated to operate at high temperatures. To assure the possible future scalability of the process, a technology industrially very well recognized by his low associate costs was used: Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD). The microstructures of the surfaces obtained were characterized with a Scanning Electron Microscope (SEM). The optical and thermal properties were evaluated by means of reflectometry. The properties of the different coverings obtained were compared with a selective commercial sample. The Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub> covering resulted the more convenient one: his average solar absorbance was 96 %, and his average infrared reflectance 87 %.Asociación Argentina de Energías Renovables y Medio Ambiente (ASADES)2010info:eu-repo/semantics/articleinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionArticulohttp://purl.org/coar/resource_type/c_6501info:ar-repo/semantics/articuloapplication/pdf9-13http://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/99531spainfo:eu-repo/semantics/altIdentifier/issn/0329-5184info:eu-repo/semantics/openAccesshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International (CC BY-NC-ND 4.0)reponame:SEDICI (UNLP)instname:Universidad Nacional de La Platainstacron:UNLP2026-06-23T10:44:17Zoai:sedici.unlp.edu.ar:10915/99531Institucionalhttp://sedici.unlp.edu.ar/Universidad públicaNo correspondehttp://sedici.unlp.edu.ar/oai/snrdalira@sedici.unlp.edu.arArgentinaNo correspondeNo correspondeNo correspondeopendoar:13292026-06-23 10:44:17.809SEDICI (UNLP) - Universidad Nacional de La Platafalse
dc.title.none.fl_str_mv Elaboración de superficies absorbedoras con recubrimientos refractarios para aplicaciones a altas temperaturas
title Elaboración de superficies absorbedoras con recubrimientos refractarios para aplicaciones a altas temperaturas
spellingShingle Elaboración de superficies absorbedoras con recubrimientos refractarios para aplicaciones a altas temperaturas
Di Lalla, Nicolás
Ingeniería
Ciencias Exactas
selectividad
Energía solar
PECVD
title_short Elaboración de superficies absorbedoras con recubrimientos refractarios para aplicaciones a altas temperaturas
title_full Elaboración de superficies absorbedoras con recubrimientos refractarios para aplicaciones a altas temperaturas
title_fullStr Elaboración de superficies absorbedoras con recubrimientos refractarios para aplicaciones a altas temperaturas
title_full_unstemmed Elaboración de superficies absorbedoras con recubrimientos refractarios para aplicaciones a altas temperaturas
title_sort Elaboración de superficies absorbedoras con recubrimientos refractarios para aplicaciones a altas temperaturas
dc.creator.none.fl_str_mv Di Lalla, Nicolás
Lasorsa, Carlos
Morando, Pedro
author Di Lalla, Nicolás
author_facet Di Lalla, Nicolás
Lasorsa, Carlos
Morando, Pedro
author_role author
author2 Lasorsa, Carlos
Morando, Pedro
author2_role author
author
dc.subject.none.fl_str_mv Ingeniería
Ciencias Exactas
selectividad
Energía solar
PECVD
topic Ingeniería
Ciencias Exactas
selectividad
Energía solar
PECVD
dc.description.none.fl_txt_mv Se realizaron recubrimientos, sobre sustratos de acero inoxidable, de tres materiales refractarios: oxinitruro de titanio (TiNOx), carburo de titanio (TiC) y nitruro de silicio (Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>). El fin fue el de determinar cuál de ellos presenta mejores cualidades para una posible aplicación en absorbedores selectivos que operen a altas temperaturas. Para asegurar una posible escalabilidad futura del proceso, se empleó una técnica industrialmente muy reconocida por sus bajos costos asociados, como es la "Deposición Química en Fase Vapor Asistida por Plasma" ó PECVD ("Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition"). Los depósitos obtenidos fueron observados mediante microscopia electrónica para determinar sus microestructuras. Las propiedades ópticas y térmicas de las superficies se evaluaron mediante reflectometría visible e infrarroja respectivamente. Además, se compararon las propiedades de los distintos recubrimientos con las obtenidas de una muestra selectiva comercial. Como resultado se determinó que el Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub> se destaca por sobre los otros recubrimientos estudiados; su absorbancia solar promedio resultó del 96%, y su reflectancia promedio en el IR del 87%.
Coverings of refractory materials: titanium oxinitride (TiNOx), titanium carbide (TiC) and silicon nitride (Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>) on stainless steel substrate were performed. The aim was to study the possibility of elaborating selective coverings adequated to operate at high temperatures. To assure the possible future scalability of the process, a technology industrially very well recognized by his low associate costs was used: Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD). The microstructures of the surfaces obtained were characterized with a Scanning Electron Microscope (SEM). The optical and thermal properties were evaluated by means of reflectometry. The properties of the different coverings obtained were compared with a selective commercial sample. The Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub> covering resulted the more convenient one: his average solar absorbance was 96 %, and his average infrared reflectance 87 %.
Asociación Argentina de Energías Renovables y Medio Ambiente (ASADES)
description Se realizaron recubrimientos, sobre sustratos de acero inoxidable, de tres materiales refractarios: oxinitruro de titanio (TiNOx), carburo de titanio (TiC) y nitruro de silicio (Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>). El fin fue el de determinar cuál de ellos presenta mejores cualidades para una posible aplicación en absorbedores selectivos que operen a altas temperaturas. Para asegurar una posible escalabilidad futura del proceso, se empleó una técnica industrialmente muy reconocida por sus bajos costos asociados, como es la "Deposición Química en Fase Vapor Asistida por Plasma" ó PECVD ("Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition"). Los depósitos obtenidos fueron observados mediante microscopia electrónica para determinar sus microestructuras. Las propiedades ópticas y térmicas de las superficies se evaluaron mediante reflectometría visible e infrarroja respectivamente. Además, se compararon las propiedades de los distintos recubrimientos con las obtenidas de una muestra selectiva comercial. Como resultado se determinó que el Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub> se destaca por sobre los otros recubrimientos estudiados; su absorbancia solar promedio resultó del 96%, y su reflectancia promedio en el IR del 87%.
publishDate 2010
dc.date.none.fl_str_mv 2010
dc.type.none.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/article
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
Articulo
http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
info:ar-repo/semantics/articulo
format article
status_str publishedVersion
dc.identifier.none.fl_str_mv http://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/99531
url http://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/99531
dc.language.none.fl_str_mv spa
language spa
dc.relation.none.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/altIdentifier/issn/0329-5184
dc.rights.none.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/
Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International (CC BY-NC-ND 4.0)
eu_rights_str_mv openAccess
rights_invalid_str_mv http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/
Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International (CC BY-NC-ND 4.0)
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
9-13
dc.source.none.fl_str_mv reponame:SEDICI (UNLP)
instname:Universidad Nacional de La Plata
instacron:UNLP
reponame_str SEDICI (UNLP)
collection SEDICI (UNLP)
instname_str Universidad Nacional de La Plata
instacron_str UNLP
institution UNLP
repository.name.fl_str_mv SEDICI (UNLP) - Universidad Nacional de La Plata
repository.mail.fl_str_mv alira@sedici.unlp.edu.ar
_version_ 1868982088069283840
score 13.365483