Determinación del llenado capilar en silicio poroso mediante interferometría de baja coherencia

Autores
Sallese, Marcelo; Morel, Eneas Nicolás; Cencha, Luisa; Budini, Nicolás; Urteaga, Raúl; Torga, Jorge Román
Año de publicación
2017
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
documento de conferencia
Estado
versión publicada
Descripción
La determinación de la dinámica de llenado capilar en estructuras nanoporosas y, en particular, del perfil de la fracción de llenado en el frente de mojado se ha propuesto como un posible método de caracterización de la distribución de poros de la estructura [1]. Así mismo, la dinámica de llenado en estructuras nanoporosas de morfología conocida permite realizar el estudio de propiedades de fluidos en condiciones de gran confinamiento espacial [2]. En este trabajo se propone determinar la dinámica de llenado capilar en estructuras de silicio poroso nanoestructurado mediante la técnica de interferometría de baja coherencia. El ingreso de un líquido dentro de la estructura porosa produce un incremento en el espesor óptico de la capa. La determinación del espesor óptico en función de la posición y del tiempo permite monitorear la dinámica de llenado capilar. El sistema empleado es un interferómetro de una sola rama que utiliza como fuente de luz un láser de gran ancho espectral (~100 nm, centrado en 800 nm), un sistema de fibra óptica y un espectrómetro como sistema de detección. La señal de interferencia se genera por la superposición de las reflexiones en las distintas interfaces de la muestra con una reflexión de referencia (Fig. 1a). A partir del análisis de esta señal es posible medir camino óptico recorrido por el haz al atravesar la muestra. Se determinó el llenado capilar de una muestra de silicio poroso de 30 micrones de espesor y 80% de porosidad utilizando alcohol etílico. La muestra fue sellada en su parte superior con un film de etil-vinil-acetato (EVA) mediante calentamiento controlado del termoplástico (Fig. 1b). Los resultados indican que la dinámica de llenado sigue un comportamiento tipo Washburn (����� ∝ ��������������� ) y se evidencia un ensanchamiento pronunciado del frente de avance (Fig. 1c) que se corresponde con la morfología de la estructura porosa.
Fil: Sallese, Marcelo. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Delta. Grupo Fotonica Aplicada; Argentina.
Fil: Morel, Eneas Nicolás. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Delta. Grupo Fotonica Aplicada; Argentina
Fil: Cencha, Luisa. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Delta. Grupo Fotonica Aplicada; Argentina
Fil: Budini, Nicolás. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Delta. Grupo Fotonica Aplicada; Argentina
Fil: Urteaga, Raúl. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Delta. Grupo Fotonica Aplicada; Argentina
Fil: Torga, Jorge Román. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Delta. Grupo Fotonica Aplicada; Argentina
Materia
Estructuras nanoporosas
Silicio
Nanoestructurado
Interferometría
óptico
Capilar
Espectrómetro
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
2020-02-07T19:53:50Z
Repositorio
Repositorio Institucional Abierto (UTN)
Institución
Universidad Tecnológica Nacional
OAI Identificador
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